納米位移臺(tái)通常具有兩種主要的定位模式：步進(jìn)定位（Step positioning）和連續(xù)定位（Continuous positioning）。
步進(jìn)定位模式：在步進(jìn)定位模式下，納米位移臺(tái)以固定的步長移動(dòng)。它通過控制執(zhí)行器（如壓電元件或電磁驅(qū)動(dòng)）以離散的方式進(jìn)行位置變化。這種模式下，納米位移臺(tái)移動(dòng)到目標(biāo)位置后會(huì)停止，并保持在該位置。步進(jìn)定位模式適用于需要準(zhǔn)確的位置控制、位置固定以及需要進(jìn)行單點(diǎn)測(cè)量或操作的應(yīng)用。
連續(xù)定位模式：在連續(xù)定位模式下，納米位移臺(tái)可以以連續(xù)的方式進(jìn)行位置調(diào)節(jié)。它可以實(shí)時(shí)地對(duì)執(zhí)行器施加控制信號(hào)，從而實(shí)現(xiàn)平滑和連續(xù)的位置變化。連續(xù)定位模式適用于需要連續(xù)掃描、運(yùn)動(dòng)軌跡跟蹤、表面映射等需要連續(xù)變化的應(yīng)用。
區(qū)別：
步進(jìn)定位模式是離散的，而連續(xù)定位模式是連續(xù)的。在步進(jìn)定位模式下，納米位移臺(tái)會(huì)在每個(gè)步進(jìn)位置上停止，而在連續(xù)定位模式下，它可以平滑地移動(dòng)到任意位置。
步進(jìn)定位模式適用于需要固定位置和離散操作的應(yīng)用，而連續(xù)定位模式適用于需要連續(xù)運(yùn)動(dòng)、掃描或跟蹤的應(yīng)用。
步進(jìn)定位模式下的定位精度通常較高，因?yàn)槊總€(gè)位置都可以被準(zhǔn)確控制和固定。而連續(xù)定位模式下的定位精度可能受到運(yùn)動(dòng)平滑性和控制系統(tǒng)的響應(yīng)時(shí)間等因素的影響。
選擇步進(jìn)定位模式還是連續(xù)定位模式取決于具體應(yīng)用的需求。某些應(yīng)用可能需要高精度的位置控制和固定，適合步進(jìn)定位模式。而對(duì)于需要平滑連續(xù)運(yùn)動(dòng)或?qū)崟r(shí)反饋的應(yīng)用，則更適合選擇連續(xù)定位模式。
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