納米位移臺(tái)在掃描到邊緣位置不準(zhǔn)，通常與運(yùn)動(dòng)控制、機(jī)械特性和掃描策略有關(guān)。
首先是加減速影響。掃描接近行程邊緣時(shí)，控制器往往提前減速或限幅，實(shí)際位移與指令不完全一致，容易造成邊緣位置偏差。
其次是機(jī)械非線性與回程誤差。導(dǎo)軌、柔性結(jié)構(gòu)或傳動(dòng)件在行程兩端受力狀態(tài)變化，非線性和滯后更明顯，邊緣精度通常低于中間區(qū)域。
第三是反饋與采樣問(wèn)題。位置反饋分辨率有限，或采樣與掃描速度不匹配，在邊緣快速變化階段容易出現(xiàn)定位誤差。
另外是掃描方式不合理。單向掃描或頻繁反向切換，在邊緣處更容易放大誤差；長(zhǎng)時(shí)間掃描還可能疊加溫漂影響。
一般可通過(guò)降低邊緣掃描速度、增加緩沖行程、使用閉環(huán)控制、優(yōu)化掃描路徑，并在中間區(qū)域完成標(biāo)定來(lái)改善。邊緣不準(zhǔn)往往是系統(tǒng)特性體現(xiàn)，合理避讓和參數(shù)優(yōu)化比強(qiáng)行修正更有效。